简介:本设备为一种新型的真空烤盘炉,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。
主要用于有效清除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提到制品质量的目的。
主要用于有效清除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提到制品质量的目的。
产品优势
1、价格优势
2、高效的清洗杂质能力,大大延长了承受器的使用寿命。
3、独特的系统设计,全自动化的操作方法。
4、提供快速反应的优势客服并有大量LED客户安装的丰富经验