美国Laurell,Inc总部位于美国宾夕法尼亚，成立于1985年，是一家专业提供化工半导体材料清洁涂敷处理等特殊工艺的公司。公司拥有WS-1000-CP5/ WS-1000-CP7-D等各类半导体湿制成设备，目前客户已遍布全球。有WS-1000湿法刻蚀设备，WS-1000m湿法刻蚀设备等多种半导体湿制成设备。
湿法刻蚀设备有标准型和更好的湿法刻蚀设备，标准型湿法刻蚀设备使用于一般要求，更好的湿法刻蚀设备具有优良性能，满足客户对湿法刻蚀设备的更高要求。半导体湿制成设备有不同型号，请根据具体需要选择半导体湿制成设备。推荐的半导体湿制成设备：WS-1000m湿法刻蚀设备
湿法刻蚀设备选项：
◆排气联锁控制处理器（一些型号是标准的）
◆加热和原材料搅拌
◆抵抗力冲洗
◆排水转向装置
◆真空负荷棒
◆晶片盒座
◆检漏
◆轻塔
湿法刻蚀设备特点：
◆全聚丙烯构造（见下文的自灭火功能）
◆可兼容安装任何Laurell 旋涂机
◆有排孔的湿隔层（易于拆除）
◆潮湿的空间
◆标准规格的排气空间
◆被热水器，水，容器等隔离的组件/容器
更好的湿法刻蚀设备
WS-1000-CP5 符合SEMI S93标准应用在消防安全和洁净空间等领域。CP5符合UL94 V-O 火灾分类标准。它具有优良的平衡的物理性能，耐化学药品性和耐火性。
最佳的湿法刻蚀设备
WS-1000-CP7-D的材料阻燃特性符合最严格的FMRC 4910测试标准，满足多方面条件下的难燃性，自熄特点和彻底燃烧。这种先进的材料也达到或超过产生低烟和最小毒副产品的检测标准。
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