MOCVD真空烤盘炉

简介：本设备为一种新型的真空烤盘炉，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，H2)。
主要用于有效清除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提到制品质量的目的。 

产品优势

1、价格优势

2、高效的清洗杂质能力，大大延长了承受器的使用寿命。

3、独特的系统设计，全自动化的操作方法。

4、提供快速反应的优势客服并有大量LED客户安装的丰富经验