半导体硅片光刻清洗机设备工作台

 
 
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更新 2014-06-27 09:21
 
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北京华林嘉业股份

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  • 北京
  • 上次登录 2010-07-05
  • wangxia (女士)  
详细说明
1. 本设备是光刻清洗台,适用于4-6英寸半导体硅片清洗工艺。
2.整机由机台、操作台面、清洗槽体、温度控制系统,排风、机台照明、电气控制系统等组成。机身包板为德国PP板。瓷白色,整洁美观。
3.3个槽体  水浴加热槽2个,排水槽1  
4.本半导体硅片光刻清洗机设备的左、右前方各配置PP材料的水枪、气qiang2
5.PLC控制器
6.声光提示、报警功能
7. 设备照明:20W封闭日光灯
8. DIW氮气(N2) 管路、洁净空气管路、自来水管、药液排放管、排气管路、排水管布局简洁合理。  

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