等离子体清洗设备作为一种精密干法清洗设备，可以应用于半导体开发 、集成电路开发 、真空电子行业 、塑料、玻璃和陶瓷表面活化以及微晶玻璃、继电器件的后续清洗．也可用于生命科学实验等。
特点：
★ PLC控制，工艺参数、运行时间、工艺过程实时
监视并显示运行状态包括自动模式和手动模式
★ 自动模式下可同时存储50组不同的配方
★ MFC质量流量计控制（标准配置2路）
★ 气体流量：(0～100)ml/min （标准气压,0℃）
★ 真空度：(10～1000)Pa
★ 清洗时间、基础压力、功率、流量设定可调
★ 工作气体压力、压缩空气压力、热过载、反应仓泄露、反射功率过大报警
★ 可根据客户工艺定制在线式等离子体清洗机
